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光学膜涂布机的主要功能是在光学基材（如玻璃、塑料、光纤等）的表面上均匀涂布光学膜材料。这些膜材料通常是一种或多种具有特定光学性质的薄膜材料，例如金属膜、介质膜、光子晶体膜等。通过涂布机的涂布头或其他涂布装置，光学膜材料以溶液、蒸发、离子镀等方式被均匀地涂布在基材表面上。

光学膜涂布机通常具有以下特点和功能：

涂布控制：具备涂布速度、厚度控制等功能，以确保光学膜的均匀性和精确度。

温度控制：提供加热或冷却系统，以控制光学膜材料的温度，确保涂布过程的稳定性和膜材料的性能。

多层膜涂布：允许在同一基材上涂布多层光学膜，以实现更复杂的光学效果和多功能的光学器件。

气氛控制：提供恒温、真空或其他特定气氛下的涂布环境，以保证膜材料的质量和性能。

涂布材料供给系统：提供涂布材料的供给系统，确保材料的连续供应和质量控制。

光学膜涂布机广泛应用于光学器件制造、光学涂层研究、显示技术、光通信、太阳能电池、激光器件等领域。通过精确的涂布过程，光学膜涂布机能够在光学基材上制备出具有特定光学性能的薄膜涂层，从而满足各种光学应用的需求。

▶ 光学膜涂布机采用多种烘箱形式：

· 漂浮式烘箱，满足产品高品质、高洁净要求；

· 开启式烘箱，不锈钢内胆，满足产品高品质、高洁净要求；

· 新型网纹涂头，稳定，可靠，适应高速需求。